德國Hellma CaF2高純度單晶氟化鈣光學(xué)材料低色散原廠直銷

100多年來，Hellma一直是的用于實(shí)驗(yàn)室分析的UVVis近紅外光譜容器供應(yīng)商，現(xiàn)在也是研究和工業(yè)廣泛應(yīng)用的過程分析技術(shù)的解決方案專家。Hellma Analytics和Hellma Solutions品牌的產(chǎn)品和服務(wù)為實(shí)驗(yàn)室和過程中精確可靠的測量結(jié)果提供基礎(chǔ)，從而為化學(xué)，制藥，生命科學(xué)，食品和飲料，化妝品，環(huán)境，能源，技術(shù)和研究行業(yè)提供安全和高質(zhì)量的終端產(chǎn)品。

德國Hellma光學(xué)材料CaF2氟化鈣 具有出色的透射率

Hellma  CaF2作為半導(dǎo)體行業(yè)微光刻光學(xué)的既定標(biāo)準(zhǔn)，Hellma  CaF2晶體在光學(xué)精度方面樹立了新標(biāo)準(zhǔn)。其出色的性能，例如在紫外、可見光和紅外光譜中的廣泛透射率以及對環(huán)境影響的高抗性，使其成為研究和工業(yè)中要求苛刻的應(yīng)用的理想選擇

Hellma 材料 CaF2晶體：為您的光學(xué)挑戰(zhàn)提供定制解決方案。

氟化鈣（CaF2） 是一種經(jīng)過驗(yàn)證的光學(xué)材料，具有出色的性能：

廣泛的傳輸光譜：在紫外、可見光和紅外范圍內(nèi)具有出色的透射率。

低色散：限度地減少色差。

高抗電離輻射能力：可用于太空。

低非線性折射率：高功率激光應(yīng)用的理想選擇。

大直徑：高達(dá) 440 毫米，適用于要求苛刻的應(yīng)用。

由于采用高純度起始材料：我們生產(chǎn)大型高純度單晶氟化鈣。

由于這些特性，我們的 CaF2水晶是以下用途的：

半導(dǎo)體行業(yè)：微光刻光學(xué)器件可實(shí)現(xiàn)精度。

真空技術(shù)：適用于惡劣環(huán)境的堅(jiān)固真空窗口。

我們氟化鈣的優(yōu)勢

特征 價(jià)值 優(yōu)勢

低折射率 nd= 1.43384 高功率激光應(yīng)用的理想選擇

低光譜色散 ??d= 95.23 限度地減少色差

準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件的出色激光電阻 193 納米、248 納米 激光部件使用壽命長

從深紫外到紅外范圍的高寬帶透射 130 nm 至 8 μm 在紫外、可見光和紅外范圍內(nèi)具有出色的透射率

半成品可用尺寸 高達(dá) 440 毫米 適用于要求苛刻的應(yīng)用

Hellma Materials 半成品的優(yōu)勢：

材料尺寸靈活：根據(jù)您的特定要求定制解決方案。

優(yōu)化性能：實(shí)現(xiàn)的光學(xué)精度和效率。

可靠性：相信經(jīng)過驗(yàn)證且使用壽命長的材料。

質(zhì)量控制：所有測量技術(shù)，包括內(nèi)部激光實(shí)驗(yàn)室

德國Hellma CaF2高純度單晶氟化鈣光學(xué)材料低色散原廠直銷